Uitgelicht

IT-bedrijven zetten steeds vaker in op employer branding 

Uit recent gepubliceerde cijfers blijkt dat circa 25% van de ICT’ers in het afgelopen jaar van baan en/of werkgever wisselde. ...

KindeRdam verbreedt haar horizon

Bij de Rotterdamse kinderopvangorganisatie KindeRdam is er qua telefonie veel veranderd de afgelopen tijd. Een bestuurlijke fusie met de HefGroep ...

Een bericht van Odido Business

Begin september was daar plots Odido. Een nieuwe provider, maar wel één met al 6 miljoen klanten. Odido is er ...

Chantal 't Gilde

Qualys Enterprise TruRisk Platform brengt de werkelijke cyberrisico’s in kaart

Qualys introduceerde begin november het nieuwe Qualys Enterprise TruRisk Platform, dat organisaties ondersteunt in het beheren en verminderen van cyberrisico's. ...

april, 2024

» Volledige kalender
» Uw event aanmelden

» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Achter het nieuws

spyware

Security

Inzet van spyware in Nederland

Het parlement van de Raad van Europa onderzoekt mensenrechtenschendingen door de inzet van spyware. Duidelijk is dat er sprake is van verregaande spionage, al wordt gelegitimeerde inzet van spyware ten zeerste betwijfeld. Vijf landen,...

Wiel van Enigma encryptie

IT management

Standaard voor encryptie moet omhoog

Op dit moment zijn kwantumcomputers nog niet krachtig genoeg om de huidige encryptie te breken, maar verwacht wordt dat dit niet al te lang meer gaat duren. Daarom moeten bedrijven nu al aan de...

regeneratieve intelligentie

Datamanagement

De zoektocht naar regeneratieve intelligentie

Op het speelveld van een duurzame samenleving staan organisaties steeds vaker schaakmat. Degeneratief gedrag komt steeds verder onder druk te staan. In het weekend ongebruikte IT-systemen uitzetten of hier en daar wat efficiënter programmeren...

cybersecurity puzzel

IT management

Cybersecurity in de nabije toekomst

In theorie is cybersecurity bewonderenswaardig goed georganiseerd, met de blik gericht naar de toekomst. De weerbarstige praktijk ziet er echter geheel anders uit: het merendeel van de security-professionals rent dag in dag uit van...

konijn uit hoge hoed desinformatie informatie

Datamanagement

Een wereld zonder waarheid

Gevraagd naar wat echt grote problemen zijn in de wereld, kunnen we diverse dingen noemen. Van klimaatverandering tot aan geopolitieke spanningen, pandemische dreigingen of de logistieke opstoppingen. Maar op de achtergrond van al deze...

Zotg&ICT 2023

Zorg

‘In charge of the future’

Digitalisering is cruciaal voor de toekomst van de zorg. Wil jij alles weten over slimme technologieën en innovatieve oplossingen die bijdragen aan een betaalbare, efficiënte en toekomstbestendige zorg? Zorg dan dat je erbij bent...

jeugdzorg wachtlijsten datagedreven aanpakken

Datamanagement

Wachtlijsten in jeugdzorg datagedreven te lijf

De wachtlijsten in de jeugdzorg zijn al jaren erg lang en groeiende. Kan de sector zelf oplossingen bedenken? Met dat doel organiseerden de Amsterdamse jeugdhulporganisatie Levvel en dataspecialist in de zorg 6Gorilla’s een Design...

Generatieve AI-storm

Cloud

Hoe wapenen we ons tegen de Generatieve AI-storm?

“Jouw team loopt achter. Al jouw concullega’s gebruiken slimme AI-apps. Zij zijn productiever, creatiever en efficiënter. Gemiste kans als je daar niet in mee gaat.” Als je in de Generatieve AI Twitterbubbel zit, herken...

VWS actieplan

Zorg

VWS pakt regie met actieplan Zorg-ICT

Slechte elektronische gegevensuitwisseling veroorzaakt hoge administratieve lasten in de zorg. De Wet elektronische gegevensuitwisseling in de zorg (Wegiz) zal verbetering brengen. En er zijn afspraken gemaakt over digitalisering en informatie-uitwisseling in het Integraal Zorgakkoord...