Uitgelicht

IT-bedrijven zetten steeds vaker in op employer branding 

Uit recent gepubliceerde cijfers blijkt dat circa 25% van de ICT’ers in het afgelopen jaar van baan en/of werkgever wisselde. ...

KindeRdam verbreedt haar horizon

Bij de Rotterdamse kinderopvangorganisatie KindeRdam is er qua telefonie veel veranderd de afgelopen tijd. Een bestuurlijke fusie met de HefGroep ...

Een bericht van Odido Business

Begin september was daar plots Odido. Een nieuwe provider, maar wel één met al 6 miljoen klanten. Odido is er ...

Chantal 't Gilde

Qualys Enterprise TruRisk Platform brengt de werkelijke cyberrisico’s in kaart

Qualys introduceerde begin november het nieuwe Qualys Enterprise TruRisk Platform, dat organisaties ondersteunt in het beheren en verminderen van cyberrisico's. ...

april, 2024

» Volledige kalender
» Uw event aanmelden

» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Achter het nieuws

2022 blokjes disrupties verstoringen

IT management

Zes grote verstoringen die op de loer liggen

Meer aandacht voor het menselijke aspect Een verrassing is meestal positief. Dat ligt anders wanneer een verrassing zo omvangrijk, onverwacht en ingrijpend is dat het de gang van zaken flink kan verstoren. Gartner houdt...

vingerafdruk digitaal persoonlijk databeheer financiële sector

Datamanagement

Van wie is al die data?

Op zoek naar beheersing en vertrouwen in persoonlijk databeheer Wie of wat beheert uiteindelijk ‘de data’? Houdt big tech de touwtjes in handen of zijn uiteindelijk toch de gebruikers ‘eigenaar’? Er zijn diverse initiatieven...

thuiswerken moeder achter laptop met kind. standaard werkplek

Communicatie / Telecom

Afscheid van de standaard werkplek

Optimalisatie van variëteit Sinds het begin van 2020 zit virtueel werken sterk in de lift. Daartoe aangespoord door de coronacrisis moesten digitale werkers in zeer korte tijd leren omgaan met nieuwe technologie. Dat moesten...

zorg VR AR Rathenau immersieve technologie

IT management

De lange neus van de metaverse

Walmart heeft plannen om eigen crypto-geld en digitale eigendomsbewijzen (NFT’s) te gaan maken. Ook Nike komt met hippe digitale plannen zoals virtuele merksneakers en kleding. Microsoft telt maar liefst €65 miljard neer voor de...

hyperscales grote flatgebouwen op een hand

Datamanagement

Willen we nog meer hyperscales in Nederland?

Evenals onze honger naar data groeit de behoefte aan faciliteiten voor opslag en verwerking. Voor big tech is Nederland een aantrekkelijke locatie voor gigantische datacenters, onder meer door de aanwezigheid van het internetknooppunt AMS-IX....

Joost Huiskens healthcare expert SAS

Zorg

Breng AI nu eens eindelijk naar het bed

Als het aan voormalig arts dr. Joost Huiskens ligt, gaan ziekenhuizen in 2022 inzien dat investeren in nog meer AI-modellen alleen maar extra complexiteit met zich meebrengt. Er is nu aandacht nodig voor het...

radicale flexibiliteit

IT management

Radicale flexibiliteit op grote schaal

De volgende stappen van de CIO Een jaar geleden kon je je als bedrijf nog onderscheiden met een sterke digitale capaciteit. Anno 2022 wordt dat gewoon de manier waarop je zakendoet. Van de CIO...

Mythes doorprikken ICT-infrastructuur

Cloud

5 mythes ontkracht

Moderne infrastructuur Over ICT-infrastructuur doen flink wat mythes de ronde. Veel van de misvattingen worden bedacht en gevoed door partijen die iets proberen te verkopen. Hoog tijd om deze mythes voor eens en altijd...