Uitgelicht

IT-bedrijven zetten steeds vaker in op employer branding 

Uit recent gepubliceerde cijfers blijkt dat circa 25% van de ICT’ers in het afgelopen jaar van baan en/of werkgever wisselde. ...

KindeRdam verbreedt haar horizon

Bij de Rotterdamse kinderopvangorganisatie KindeRdam is er qua telefonie veel veranderd de afgelopen tijd. Een bestuurlijke fusie met de HefGroep ...

Een bericht van Odido Business

Begin september was daar plots Odido. Een nieuwe provider, maar wel één met al 6 miljoen klanten. Odido is er ...

Chantal 't Gilde

Qualys Enterprise TruRisk Platform brengt de werkelijke cyberrisico’s in kaart

Qualys introduceerde begin november het nieuwe Qualys Enterprise TruRisk Platform, dat organisaties ondersteunt in het beheren en verminderen van cyberrisico's. ...

april, 2024

» Volledige kalender
» Uw event aanmelden

» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Bedrijfsnieuws

Digital Shadows legt beveiligingsrisico’s mobiele apps bloot

Digital Shadows legt beveiligingsrisico’s mobiele apps bloot

Digital Shadows breidt SearchLight™, de dienst voor digitaal risicobeheer, uit. Nieuwe functies helpen organisaties om bedreigingen in mobiele apps te detecteren en erop te reageren, zodat medewerkers en klanten hier zo min mogelijk aan...

Vancis benoemt nieuwe CEO en CFO

Vancis benoemt nieuwe CEO en CFO

Vancis Cloud & Managed Services heeft een nieuwe CEO en CFO benoemt. Cees de Jong, thans COO binnen Vancis C&MS, zal als CEO aan de slag gaan en Frank Custers, tot voor kort financieel...

WelThuis kiest zorgtechnologie van Conview Care

WelThuis kiest zorgtechnologie van Conview Care

Steeds meer zorginstellingen gebruiken domotica en ‘slimme’ apparatuur. Met nieuwe technologie krijgen cliënten maximale vrijheid zonder in te boeten op hun veiligheid. Zij schakelen verpleegkundigen gemakkelijker in en tegelijkertijd hebben verpleegkundigen meer zicht op...

helpLine lanceert spreekuurplanmodule voor diagnostische centra

helpLine lanceert spreekuurplanmodule voor diagnostische centra

In diagnostische centra worden voor één cliënt vaak meerdere afspraken bij verschillende afdelingen of specialismen ingepland. Dat is tijdrovend en resulteert veelal in een onhandige planning voor cliënten. Hierdoor moeten ze soms lang wachten...

Microsoft Surface Book komt 20 april naar Nederland

Microsoft Surface Book komt 20 april naar Nederland

In oktober 2016 hebben we aangekondigd dat de Surface Book voor het eerst ook in Nederland beschikbaar komt. Daar kunnen we nu een datum aan toevoegen: 20 april 2017. Door zijn kracht, schermresolutie en...

Bouwmeester verantwoordelijk voor Business Solutions bij SQS

Bouwmeester verantwoordelijk voor Business Solutions bij SQS

SQS Nederland heeft Bert Bouwmeester aangetrokken als director Business Solutions. Daarmee heeft de dienstverlener uit Utrecht de organisatie rond om klanten niet alleen aan de test- en kwaliteitskant, maar ook aan de voorkant van...

Qualys voegt zich bij IBM Security App Exchange-community

Qualys voegt zich bij IBM Security App Exchange-community

Qualys, Inc. (Nasdaq: QLYS), pionier en marktleider op het gebied van op cloudgebaseerde security- en compliance-oplossingen, voegt een nieuwe Qualys-app toe aan IBM’s QRadar Security Intelligence Platform. Hiermee kunnen klanten hun netwerk en vulnerabilities...

TTS lanceert volledig mobiele Care2App Suite tijdens Zorg & ICT

TTS lanceert volledig mobiele Care2App Suite tijdens Zorg & ICT

Het traditionele ECD, jarenlang de steun en toeverlaat van de VVT-industrie, wordt uitgefaseerd, nu mobiel werken de realiteit wordt. Verpleegkundigen, artsen en zorgverleners gaan aan de bron plannen opstellen en zorg registreren, zodat de...