Uitgelicht

IT-bedrijven zetten steeds vaker in op employer branding 

Uit recent gepubliceerde cijfers blijkt dat circa 25% van de ICT’ers in het afgelopen jaar van baan en/of werkgever wisselde. ...

KindeRdam verbreedt haar horizon

Bij de Rotterdamse kinderopvangorganisatie KindeRdam is er qua telefonie veel veranderd de afgelopen tijd. Een bestuurlijke fusie met de HefGroep ...

Een bericht van Odido Business

Begin september was daar plots Odido. Een nieuwe provider, maar wel één met al 6 miljoen klanten. Odido is er ...

Chantal 't Gilde

Qualys Enterprise TruRisk Platform brengt de werkelijke cyberrisico’s in kaart

Qualys introduceerde begin november het nieuwe Qualys Enterprise TruRisk Platform, dat organisaties ondersteunt in het beheren en verminderen van cyberrisico's. ...

april, 2024

» Volledige kalender
» Uw event aanmelden

» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

X. IT beheer

Mirjam Hulsebos portret 0

X. IT beheer

10 redenen om te kiezen voor eigen dark fiber

Nu steeds meer organisaties ervoor kiezen hun datacenter te outsourcen, is het belang van een breedbandverbinding nog groter geworden. Niet alleen tussen de organisatie en het primaire datacenter, maar ook tussen het primaire en...

kwantumcomputing

X. IT beheer

Vancis: samenwerking in de zorg

De meeste artsen, verpleegkundigen en verzorgenden realiseren het zich nog niet, maar de zorg staat een grote verbeterslag te wachten. Dat gaat niet eens om een medische vinding, maar om slim gebruik van ICT....

Jaspewr Bakker 0

X. IT beheer

Wordt Facebook het datacenter van de toekomst?

Facebook heeft flinke ambities. ’s Werelds grootste social network verricht serieus datacenterwerk en heeft daarvoor eigenlijk niet genoeg aan de huidige it-middelen. Dus herontwerpt en bouwt het veel zelf. Het deelt dat datacenterdesign met...

X. IT beheer

Interconnect: “Alles draait om betrouwbaarheid”

Interconnect, internet service provider uit ’s-Hertogenbosch, heeft sinds 1 januari 2015 met een innoverende oplossing op datacentergebied. Als antwoord op de garantievraag van klanten presenteert Interconnect een continuïteitswaarborging. Mocht de ISP onverhoopt omvallen dan...

X. IT beheer

HP vindt de computer opnieuw uit: The Machine

Daartoe aangespoord door de explosieve groei aan data, ontwikkelt HP nieuwe storage- en computingoplossingen. Sommige krijgen hun beslag op de wat langere termijn, maar andere kunnen nu al worden ingezet. Enerzijds om controle te...

X. IT beheer

DIGIWERKT laat informatie stromen

Informatiebeheer is een hype en dat is niet voor niets. Want het aantal informatiebronnen groeit evenals de hoeveelheid data die in die bronnen is opgeslagen. Dat brengt nieuwe mogelijkheden, maar zorgt ook voor een...

cloud ICT-sector 0

X. IT beheer

SAP zoekt heil in IBM-cloud

SAP en IBM slaan de handen ineen voor cloud, daartoe gedwongen door concurrentie en veranderende vraag. De SAP HANA Enterprise-applicaties draaien op de SoftLayer-cloud van IBM. SAP hoopt hiermee Oracle te snel af te...