Uitgelicht

IT-bedrijven zetten steeds vaker in op employer branding 

Uit recent gepubliceerde cijfers blijkt dat circa 25% van de ICT’ers in het afgelopen jaar van baan en/of werkgever wisselde. ...

KindeRdam verbreedt haar horizon

Bij de Rotterdamse kinderopvangorganisatie KindeRdam is er qua telefonie veel veranderd de afgelopen tijd. Een bestuurlijke fusie met de HefGroep ...

Een bericht van Odido Business

Begin september was daar plots Odido. Een nieuwe provider, maar wel één met al 6 miljoen klanten. Odido is er ...

Chantal 't Gilde

Qualys Enterprise TruRisk Platform brengt de werkelijke cyberrisico’s in kaart

Qualys introduceerde begin november het nieuwe Qualys Enterprise TruRisk Platform, dat organisaties ondersteunt in het beheren en verminderen van cyberrisico's. ...

april, 2024

» Volledige kalender
» Uw event aanmelden

» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Uitgelicht

IT management

What the FAX?

Veilig e-mailen in opmars bij overheid Veel overheden en gemeenten zweren nog steeds bij hun faxapparaat. ‘Even faxen’ wordt nog altijd als erg handig en veilig ervaren. Maar is dat wel zo? Er moet eerst...

IT management

Informatiebeveiliging binnen gemeenten

Van randvoorwaarde naar een centrale sturende rol Informatiebeveiliging vormt tegenwoordig een onderdeel van vrijwel alle activiteiten binnen organisaties. Het is niet langer een vage randvoorwaarde, maar sturend in de planning en uitvoering. Dit vorm...

Datamanagement

Softwarelicenties blijven verborgen schat

Qlicense: betrouwbare partij voor aan- en verkoop tweedehands licenties Zorginstellingen, bedrijven en gemeenten kunnen veel geld verdienen door zich beter te verdiepen in de mogelijkheden van de aankoop en verkoop van Microsoft softwarelicenties. “Het...

Security

Werk verantwoord, werk veilig

Iedere gemeente en provincie is mede verantwoordelijk voor de veiligheid van haar inwoners. Openbare orde, handhaving en evenementenveiligheid zijn voor u waarschijnlijk bekende thema’s in het kader van veiligheid. Maar is er binnen uw...

IT management

Laagdrempelige, veilige informatie-uitwisseling

Van Cryptshare voor lokale overheden Nederlandse gemeenten hebben de afgelopen jaren steeds meer taken toegewezen gekregen vanuit de landelijke overheid. Tegelijkertijd worden steeds meer gemeentelijke diensten gedigitaliseerd in het kader van de e-overheid. Als...

Datamanagement

De samenhang der dingen, deel 1

“Doe het licht aan over de hele keten” De Griekse filosoof Aristoteles (384-322 BC) begreep al dat een element alleen optimaal kan functioneren wanneer het in verband met het geheel optreedt. Datzelfde principe huldigt...

Zorg

Arts en patiënt ontwikkelden PGO en dat werd een succes

ICT-projecten binnen de (semi)-overheid hebben een weinig gelukkig imago. Ton Elias – oud-voorzitter van de tijdelijke commissie ict-projecten bij de overheid – vindt samen met zowel ambtenaren als de Tweede Kamer dat er te...

IT management

“ICT werkt de zorg nu tegen”

Uit onderzoek van GfK, in opdracht van Liferay Benelux, blijkt dat 78 procent van de zorgmanagers vindt dat de huidige it-systemen zorgen voor slechte communicatie en/of vertraging in de zorg richting de patiënt of...

Zorg

Voor iedere werkplek een comfortabel beeldscherm

Een goed beeldscherm is niet alleen belangrijk voor medische diagnostisering en clinical review, ook op reguliere afdelingen, in spreekkamers, bij de receptie en in it-ruimten is het gebruik van hoogwaardige en ergonomische monitoren van...