» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Onderzoek

corona app coronaMelder app-aanbieders

Zorg

Nieuwe corona-app gaat CoronaMelder heten

De nieuwe corona-app die momenteel in Twente wordt getest, krijgt de naam CoronaMelder. Dat maakte minister Hugo de Jonge vandaag bekend. Er is inmiddels ook een filmpje in omloop over de werking van de...

nepnieuws en desinformatie misinformatie

Internet

ACM pakt handel in nepreviews en neplikes aan

De ACM (Autoriteit Consument en Markt) gaat optreden tegen partijen die misleidende nepreviews, neplikes en nepvolgers verkopen. Deze misleidende beoordelingen die je gewoon kunt kopen, moeten consumenten beïnvloeden op sociale media en andere online...

covid

Zorg

Coronavirus-app test in Twente

Begin juli start een gebruikerstest van de coronavirus-app in de regio Twente. Dat schrijft minister Hugo de Jonge (VWS) in een brief aan de Tweede Kamer. Het doel van de gebruikerstest is om de...

Digitale enen en nullen digitaal wakker

Communicatie / Telecom

AT: Nederland is digitaal wakker

Nederland is digitaal wakker. Dat stelt Agentschap Telecom in het jaarbericht van 2019, de Staat van de Ether. Er is een breed besef dat digitalisering een fundamentele impact op het dagelijks leven heeft. En...

Cyber Security cyberonzekerheid

Security

Coronacrisis gaat grotendeels aan cybersecuritymarkt voorbij

De cybersecuritymarkt in Nederland merkt beperkte gevolgen van de coronacrisis. Dit blijkt uit onderzoek van brancheorganisatie Cyberveilig Nederland onder haar leden. Sommige security-bedrijven melden een omzetdaling door de coronacrisis. Daartegenover staat een derde die...