» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Autoriteit Persoonsgegevens

digitalisering en digitale ambities uitgebeeld DigiPunt

Datamanagement

Algoritmetoezicht AP van start

Maandag ging het algoritmetoezicht van de Autoriteit Persoonsgegevens (AP) van start. Deze nieuwe functie van de autoriteit moet een impuls geven aan het toezicht op algoritmes. Voor deze coördinerende, sectoroverstijgende activiteiten richt de AP...

druppel lekken medische gegevens beveiligingslek

Security

Gegevens leden FvD gelekt uit app

De privégegevens van 92.000 (oud-)leden van de FvD (Forum voor Democratie) liggen op straat door een datalek in de nieuwe ForumApp, die partijleider Thierry Baudet vorige week nog presenteerde. Het gaat volgens RTL Nieuws,...

privacy

Security

AP waarschuwt WK-gangers voor Qatarese apps

De verplichte Qatarese apps die WK-gangers moeten installeren als ze het land in willen hebben flinke privacyrisico’s. Dat zegt de Autoriteit Persoonsgegevens (AP) die een waarschuwing op de website publiceert. Dat autoriteit raadt bezoekers...

AMS

Zorg

VWS: routekaart voor hergebruik patiëntgegevens

Het ministerie van VWS gaat een visie en routekaart opstellen voor het secundair gebruik van patiëntgegevens. Dat blijkt uit de recente nota Informatieplan 2023-2027 . De notitie moet bijdragen aan verantwoord gebruik van zowel...

Dutch cloud cloudbeleid

Cloud

Kabinet moet privacyrisico’s cloudbeleid aanpakken

Het kabinet moet de privacyrisico’s van het op handen zijnde vernieuwde cloudbeleid aanpakken. Dat schrijft de Autoriteit Persoonsgegevens (AP) in een brief aan staatssecretaris Van Huffelen van Digitalisering. Het dringende advies komt na het...

crisisgame

Zorg

Vaccinbedrijf Bilthoven Biologicals slachtoffer ransomware

Bilthoven Biologicals. een Nederlandse vaccinbedrijf in Bilthoven heeft te maken met een ransomware-aanval. De hackers zeggen dat ze gevoelige informatie over vaccins in handen hebben. Een deel ervan staat volgens RTL Nieuws intussen op...

hacktalent

Zorg

Hack ID-ware treft zorginstelling ZINN

Een hack met gijzelsoftware in de systemen van ID-ware heeft gevolgen voor een van de locaties van ouderenzorginstelling ZINN. Van een van de locaties van het Groningse zorgbedrijf, woonzorgcentrum De Burcht in Hoogezand, zijn...

Gebouw Kadaster Apeldoorn

Security

Geheime adressen gelekt bij Kadaster

Zeker 3.700 geheime adressen lagen een een maand lang op straat door een fout in een systeemupdate bij het Kadaster. Het systeem was volgens de Volkskrant lek tussen 18 september en 11 oktober. In...