» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Beheer

maasstad

Zorg

Thuismonitoring COPD-patiënten in Drenthe

Met een feestelijke aftrap startte begin deze maand een nieuwe werkwijze van thuismonitoring bij COPD. Deze primeur is het resultaat van een samenwerking tussen het WZA (Wilhelminaziekenhis Assen) Gezondheidscentrum Noorderpark, huisartsenpraktijk Dwingeloo, Dokter Drenthe...

Gebouw Kadaster Apeldoorn

Security

Kadaster neemt maatregelen tegen misbruik register

Het Kadaster neemt maatregelen om het risico op misbruik van gegevens uit openbare registers verder te verkleinen. Doel is om het zo moeilijk mogelijk te maken om ongeoorloofd toegang te verkrijgen tot gegevens, terwijl...

Artsen in de klas banenroof GGZ

Zorg

Psychiaters slepen NZA voor rechter om vragenlijsten GGZ

Een groep psychiaters, psychologen en cliënten in de geestelijke gezondheidszorg (GGZ) start een rechtszaak tegen de Nederlandse Zorgautoriteit (NZa). De reden is de vragenlijsten die behandelaars sinds 1 juli moeten inleveren. Volgens de nieuwe...

DNB gebouw Centric

Datamanagement

DNB gooit Centric eruit

DNB (De Nederlandsche Bank zet IT-dienstverlener Centric de deur uit door een contract aan te gaan  TCS en Capgemini. Het gaat om een vierjarige samenwerking die vanaf 2024 ingaat. Deze bedrijven gaan de komende...

telefoon krijgt een prik vertaalapparaat, vertaalapparaten

Zorg

Ziekenhuis Rivierenland koopt 15 vertaalapparaten

Het ziekenhuis Rivierenland koopt 15 vertaalapparaten voor beter contact met anderstalige patiënten. Het apparaatje heeft het formaat van een kleine telefoon en kan via een spraakfunctie naar meer dan 70 talen vertalen. De aankoop...

hacktalent

Security

Bestrijding zeroday-aanvallen collectieve verantwoordelijkheid

Hackers benutten steeds vaker onontdekte kwetsbaarheden in software en systemen, waardoor zogenaamde zeroday-aanvallen steeds prominenter worden. Deze toenemende dreiging vraagt om gezamenlijke inspanning om zowel eigen security als het algemene belang te beschermen. “Het...