» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Cloud

spp cloud ziekenhuis techontwikkelaars

Zorg

Oproep techontwikkelaars van zeven ziekenhuizen

Zeven ziekenhuizen starten het Funxlab innovation call. Ze willen in een open netwerk samenwerken met techontwikkelaars, onderzoeksgroepen en collega-ziekenhuizen. De groep: het Albert Schweitzer ziekenhuis, Isala, Jeroen Bosch Ziekenhuis, Máxima MC, Noordwest Ziekenhuisgroep, Rijnstate...

rondvliegende drone drone0inspecties

Politiek

BZ: geen verbod op drone-inspecties gemeenten

Er komt geen verbod op drone-inspecties door gemeenten. Gemeenten zijn zelf verantwoordelijk in hun beoordeling of het terecht is dat ze in een bepaalde situatie een drone inzetten bij inspecties in wijken. Minister De...

algoritme radartjes Wmebv

Politiek

Nauwere samenwerking NCSC DTC en CSIRT-DSP

Drie overheidsorganisaties op het gebied van cybersecurity openen één gezamenlijk loket voor meldingen van dreigingen en kwetsbaarheden. Dit moet in 2025 leiden tot integratie naar één nationale cyberorganisatie. Het gaat om het Nationaal Cyber...

Erasmus MC Datahub beroertezorg

Zorg

Nieuw lab Erasmus MC verbetert beroertezorg met AI

Vijf promovendi gaan samen met een team van experts van het Erasmus MC en Universiteit  de beroertezorg verbeteren met AI-technieken. Dat gebeurt in samenwerking met PhilipsICAI, het landelijke Innovation Center for Artificial Intelligence. De...

International Patient Summary

Zorg

IHE geeft International Patient Summary vrij voor proefimplementaties

IHE (Integrating the Healthcare Enterprise) geeft de International Patient Summary (IPS) vrij voor proefimplementaties. Dat betekent dat ziekenhuizen ervaring kunnen opdoen met deze gestandaardiseerde werkwijze om internationaal een patiëntsamenvatting uit te wisselen. Mensen reizen...

Binnenhof vanaf Hofvijver Miljoenennota

Security

Miljoenennota spreekt amper over cybersecurity

De Miljoenennota spreekt amper over cybersecurity. In de afgelopen vier jaar komt de term maar een keer voor. Dit blijkt uit onderzoek van Legian Consultancy. Verder blijkt uit het onderzoek dat het thema informatiebeveiliging...