» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

database

paspoort Nederland paspoortgegevens

Politiek

AP: centrale database paspoortgegevens groot risico

Het kabinet wil een centrale database maken met alle paspoortgegevens die mensen aanleveren. dat zijn bijvoorbeeld vingerafdrukken, handtekeningen en pasfoto’s. Zo’n database met gegevens van heel veel Nederlanders brengt grote privacyrisico’s mee die het...

bestuurders cyberscuritybeleid cybersecuritykeurmerk

Security

Nominaties Nederlandse Privacy Awards 2023 bekend

De nominaties van de Nederlandse Privacy Awards 2023 zijn bekend. De uitreiking zelf gebeurt op 25 januari tijdens de Nationale Privacy Conferentie van ECP en Privacy First. Deze Awards bieden een podium aan organisaties...

vrouw met wekker op 5 voor 12

IT management

Vrouwendiscriminatie bij vacatures door AI

Wie bij vacatures en sollicitaties gebruikmaakt van AI werkt onbewust vrouwendiscriminatie in de hand. Dat blijkt uit recent onderzoek van Nationale Vacaturebank en de Radboud Universiteit. Bij testen maakte de toegepaste AI al snel...

gezichten silhouetten kleur gezichtsherkenning

Security

GPDP-boete Clearview AI om dataverzameling gezichtsscans

De Italiaanse privacywaakhond GPDP deelde woensdag een miljoeneboete uit aan Clearview AI om oneigenlijke dataverzameling van gezichtsscans. Het gaat om een bedrag van 20 miljoen euro. Het bedrijf moet ook verzamelde afbeeldingen van Italianen...

man met hoed zonder gezicht

Security

Politie haalt 218.000 gezichten uit CATCH-database

De politie verwijderde in 2020 zeker 218.000 oude foto’s uit de CATCH-database met gezichten van verdachten en veroordeelden. Dat stelt de Landelijke Eenheid van de politie in het jaarverslag over het jaar 2020. Onduidelijk...

covid

Zorg

Uitslagen coronatesten U-diagnostics op straat

De uitslagen van coronatesten en andere persoonsgegevens van tienduizenden mensen zijn met een paar klikken simpel te lezen in een database van U-Diagnostics. Dat blijkt onderzoek van Nieuwsuur. Het commerciële testbedrijf beschikt onder andere...