» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Datamanagement

cybercriminelen fraude vacaturefraude

Security

ING: cyberdreiging vraagt extra stappen IT-dienstverleners

Door de groeiende cyberdreiging moeten veel bedrijven en organisaties zich beter beveiligen. Vooral het MKB is onvoldoende voorbereid op cyberaanvallen. Bedrijven kunnen dit vanwege de complexiteit vaak niet zelfstandig oplossen. In 2025 geeft zakelijk...

advertenties trackingmethode

Internet

Europol haal VPNlab offline

Europol heeft VPNLab per direct offline gehaald. Cybercriminelen misbruikten deze VPN-dienst voor onder andere grote aanvallen met ransomware. De dienst bestaat al sinds 2008. Het gaat om vijftien servers door heel Europa. Zowel Europol...

Anne Frank foto in Anne Frankhuis

Datamanagement

Verrader Anne Frank gevonden met AI

De verrader van Anne Frank en haar familie is waarschijnlijk de Joodse notaris Arnold van den Bergh. Dat blijkt uit grootschalig coldcase-onderzoek met AI. De notaris verraadde de familie van Anne waarschijnlijk om zijn...

thuiswerken computer met pizza. Computerverkoop

IT management

Thuiswerken stuwt computerverkoop met 15%

Vanwege het vele thuiswerken en studeren groeide de computerverkoop wereldwijd vorig jaar met zeker 15 procent. Dat zegt marktonderzoeksbedrijf Canalys. Volgens de onderzoekers was Lenovo was vorig jaar koploper. Op twee staat  HP, en...

applicaties

Cloud

Vrees voor misbruik door rigide softwarelicenties

Meer dan 90 procent van de softwareleveranciers vrezen voor misbruik door rigide softwarelicenties. Ook leveranciers van intelligente apparaten (ISV’s en IDV’s) zijn hier bang voor. Dat blijkt uit een steekproef. Bijna driekwart (74%) van...

stapel papier op bureau. Loopbriefje MMC lastendruk

Zorg

Loopbriefje op straat oorzaak datalek Máxima MC

Een zogeheten loopbriefje dat op straat lag is de oorzaak van een flink datalek in het Eindhovense Máxima Medisch Centrum (MMC). Het ziekenhuis meldt dat zelf in een update op de site. Op oudjaarsdag...