» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Beheer

slaapstoornis

Zorg

CIO nuanceert explosieve documentaire over Chipsoft

Onder de titel ‘Dodelijke Zorg’ presenteerde de NPO half september een explosieve documentaire waarin het bijna-monopolie van Chipsoft scherp tegen het licht wordt gehouden. De docu suggereert dat het Chipsoft-EPD HiX en de wijze...

radartjes onbegrensde groei

IT management

Van onbegrensde groei naar doelbewuste bloei

“We bevinden ons in een periode van onbegrensde groei, economisch, sociaal en technologisch. Met alle onzekerheid in de wereld is één ding zeker: organisaties in elke industrie keren zich naar u en uw technologische...

dobbelsteen onzekerheid is beste vriend IM dec22

IT management

Onzekerheid is onze beste vriend

Het lijkt erop alsof de tijden waarin wij leven onzekerder zijn dan ooit tevoren. Dat klinkt dramatischer dan het misschien is, want ook onzekerheid biedt kansen. Om die kansen te kunnen grijpen, moeten we...

lampjes peertjes die branden, Active and Assisted Living

Zorg

Hoe brengen we innovatie naar de werkvloer?

In 2008 ging het Europese programma Active and Assisted Living (AAL) van start, waarin ongeveer twintig landen samenwerken aan innovaties voor een zo lang mogelijk zelfstandig en prettig leven voor ouderen. Sinds dit jaar...

digitale gegevens digitaliseringsstrategie elektronische gegevensuitwisseling opensocurce-wallet

Zorg

AP begrenst gebruik ggz-gegevens

De Autoriteit Persoonsgegevens (AP) begrenst gebruik van ggz-gegevens van patiënten door de Nederlandse Zorgautoriteit (NZa). De NZa wil zorgverleners in de geestelijke gezondheidszorg verplichten om informatie over hun patiënten te verstrekken. Met de informatie...