Statiegeld naar ‘Tikkie voor de Zorg’

Door · 01/05/2023

Zorg handen op elkaar publieke toezichthouders revalidatiezorg

In Amsterdam UMC, locatie AMC kun je sinds 24 april statiegeld op petflessen en blikjes doneren voor het initiatief ‘Tikkie voor de Zorg’.  Via een Tikkie doneren kan ook. Met dit nieuwe project wil professor Marlies Schijven projecten initiëren en faciliteren om de zorg met digitale technologie te ondersteunen.

Op plastic flessen was het al zo, maar sinds 1 april zit er ook statiegeld op blikjes. In Amsterdam UMC, locatie AMC staan grote oranje flessen om deze petflessen en blikjes in te zamelen. Lever daar uw flessen en blikjes in. Dan denkt u niet alleen aan het milieu, maar steunt u tegelijk het nieuwe initiatief ‘Tikkie voor de Zorg’, om de zorg met digitale technologie te verbeteren.

Tikkie voor de zorg

Marlies Schijven: “Zorgtechnologie, zoals bijvoorbeeld gebruik van apps als medisch hulpmiddel, moet je echt goed onderzoeken om te weten hoe we onze patiënten het beste ermee kunnen helpen. Maar zeker ook, om het werk van onze zorgmedewerkers te ondersteunen.”

Hein ter Braak: “Met project ‘Tikkie voor de Zorg’ laten we zien dat doneren via een Tikkie niet alleen makkelijk is, maar ook echt helpt in het verbeteren van de zorg wereldwijd. Digitale zorgproducten, zoals bijvoorbeeld de ‘Stoma App’ die in Nederland ontwikkeld of onderzocht worden, kunnen vaak ook elders goed gebruikt worden. Dat vinden wij natuurlijk een fantastisch en maatschappelijk heel relevant initiatief.”

Hoe kunt u doneren?

Werp uw lege flesjes of blikjes in de oranje inzamelingsflessen die verspreid in Amsterdam UMC, locatie AMC staan om zo de zorg met digitale technologie te steunen. Via de QR-code op de inzamelingsfles kunt u het project Tikkie voor de zorg met een extra donatie steunen. Niet op locatie AMC, maar wilt u wel steunen? Ga naar Tikkie voor de zorg en doneer online.

Tikkie voor de zorg is een project dat valt onder Amsterdam UMC Foundation. Deze stichting werft voor veelbelovend medisch onderzoek van het Amsterdam UMC.

Lees ook:

Tags:

Gerelateerde berichten...

Volg ons:

Uitgelicht

IT-bedrijven zetten steeds vaker in op employer branding 

Uit recent gepubliceerde cijfers blijkt dat circa 25% van de ICT’ers in het afgelopen jaar van baan en/of werkgever wisselde. ...

KindeRdam verbreedt haar horizon

Bij de Rotterdamse kinderopvangorganisatie KindeRdam is er qua telefonie veel veranderd de afgelopen tijd. Een bestuurlijke fusie met de HefGroep ...

Een bericht van Odido Business

Begin september was daar plots Odido. Een nieuwe provider, maar wel één met al 6 miljoen klanten. Odido is er ...

Chantal 't Gilde

Qualys Enterprise TruRisk Platform brengt de werkelijke cyberrisico’s in kaart

Qualys introduceerde begin november het nieuwe Qualys Enterprise TruRisk Platform, dat organisaties ondersteunt in het beheren en verminderen van cyberrisico's. ...

april, 2024

» Volledige kalender
» Uw event aanmelden

Meer

» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws