» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Software

Binnenstad Den Bosch

Politiek

Digitaal dashboard voor brede binnenstad Den Bosch

De brede binnenstad van Den Bosch krijgt per 1 mei 2023 een digitaal dashboard voor het monitoren van belangrijke economische indicatoren. Citymarketingorganisatie Den Bosch Partners sloot daarvoor een samenwerking met het Bossche softwarebedrijf Argaleo....

oudere met tablet ouderenzorg wijkverpleging

Zorg

IGJ: Beveiliging e-health wijkverpleging niet op orde

De Inspectie Gezondheidszorg en Jeugd (IGJ) heeft zorgen over de inzet van e-health in de wijkverpleging. Niet een organisatie hield zich aan de wettelijke norm. Tegelijkertijd worden, zeker vanwege het personeelstekort, digitale middelen belangrijker....

Identity & Access Management 2023

Security

Identity & Access Management 2023

AM is hét Nederlandse congres over het beheer en de toegang van digitale identiteiten. Al zeventien jaar laten IAM experts en IT (security) professionals zich tijdens dit congres informeren over de nieuwste IAM-ontwikkelingen en...

man die heel bang kijkt. ransomware-aanval ransomware

Security

De horror van ransomware

De cybersecurity-industrie roept voortdurend: ‘Het is niet de vraag óf, maar wanneer je wordt aangevallen’. We moeten eens ophouden met die richtingloze bangmakerij. Erkennen dat je slachtoffer wordt van een ransomware-aanval is iets anders...

kwantumtechnologie encryptie quantumlab

Security

RDI: problemen op komst met encryptie door quantumcomputers

De Rijksinspectie Digitale Infrastructuur (RDI) voorziet problemen met de huidige encryptie van communicatie en netwerken. Oorzaak hiervan is de ontwikkeling van quantumcomputers. Die kunnen razendsnel een groot aantal berekeningen tegelijkertijd uitvoeren. Dat betekent dat...

Telekopye ondermijnende criminaliteit

Internet

Politie benadert afnemers raidforums.com

Duizenden mails, honderden brieven en een tiental stopgesprekken. De politie in Oost-Nederland benaderde (mogelijke) afnemers van gestolen data om laten weten dat ze in beeld zijn in een onderzoek naar gestolen data via raidforums.com....