» Meer columns

Bedrijfsnieuws

Met High NA EUV opent Intel Foundry nieuwe grenzen in chipfabricage Intel is de eerste binnen de industrie die High NA EUV gebruikt, waardoor Intel ook na Intel 18A marktleider blijft. Wat is er nieuw: Intel Foundry meldt een belangrijke mijlpaal in de geavanceerde halfgeleiderproductie met de voltooide assemblage van de eerste commerciële Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner met hoge numerieke apertuur (High NA) in de industrie, die zich bevindt op de R&D-locatie van het bedrijf in Hillsboro, Oregon. Intels TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool van lithografieleider ASML doorloopt nu kalibratiestappen ter voorbereiding op de productie van Intels toekomstige proces roadmap. De nieuwe tool heeft de mogelijkheid om de resolutie en de schaalbaarheid van features voor de volgende generatie processors drastisch te verbeteren door het optische ontwerp voor het projecteren van geprinte beelden op een silicium wafer te veranderen. “Met de toevoeging van High NA EUV heeft Intel de meest veelzijdige lithografie-toolbox in de industrie, waardoor het bedrijf toekomstige procesmogelijkheden voorbij Intel 18A kan stimuleren tot in de tweede helft van dit decennium.” – Mark Phillips, Intel Fellow en directeur Lithografie, Hardware en Oplossingen voor Intel Foundry Logic Technology Development. Waarom is het belangrijk: High NA EUV tools zullen een cruciale rol spelen in geavanceerde chipontwikkeling en de productie van de volgende generatie processors. Intel Foundry – de pionier in de industrie op het gebied van High NA EUV – zal in staat zijn om nooit eerder vertoonde precisie en schaalbaarheid in chipfabricage te leveren. Hierdoor kan het bedrijf chips ontwikkelen met de meest innovatieve functies en mogelijkheden die essentieel zijn voor het stimuleren van vooruitgang in AI en andere opkomende technologieën. ASML heeft onlangs aangekondigd dat het de allereerste 10 nanometer (nm) dichte lijnen heeft geprint in het High NA lab in het hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland. Dit zijn de fijnste lijnen die ooit zijn geprint, waarmee een wereldrecordresolutie is bereikt voor een EUV-lithografiescanner. Deze demonstratie valideert het innovatieve High NA EUV optiekontwerp van ASML-partner Zeiss. Er werden baanbrekende beelden geprint nadat de optiek, sensoren en stages van de tool een grove kalibratie hadden voltooid – een opstap naar het werken op volle specificatie. ASML’s vermogen om 10 nm dichte lijnen te printen met een full field optisch lithografiesysteem is een belangrijke stap in de voorbereiding van de High NA EUV tool voor commercieel gebruik. Hoe het werkt: In combinatie met Intel Foundry’s andere toonaangevende procestechnologieën, zal High NA EUV naar verwachting in staat zijn om elementen te printen die tot 1,7x kleiner zijn dan bestaande EUV tools. Dit maakt 2D feature scaling mogelijk, wat resulteert in 2,9x meer dichtheid. Intel blijft de weg wijzen naar steeds kleinere, steeds dichtere patronen die de Wet van Moore in de halfgeleiderindustrie voortstuwen. Vergeleken met 0,33NA EUV kan High NA EUV (of 0,55NA EUV) een hoger beeldcontrast leveren voor vergelijkbare features, waardoor minder licht per belichting nodig is en waardoor de tijd die nodig is om elke laag te printen wordt verkort en de wafer output toeneemt. Intel verwacht zowel 0,33NA EUV als 0,55NA EUV te gebruiken naast andere lithografieprocessen bij de ontwikkeling en productie van geavanceerde chips, te beginnen met product proof points op Intel 18A in 2025 en doorlopend naar de productie van Intel 14A. Intel’s aanpak zal de geavanceerde procestechnologie optimaliseren voor zowel kosten als prestaties.

» Meer bedrijfsnieuws

Datamanagement

Foto ondertekening links Wouter de Jong (Topicus) en Tom Spitters (Steunwijzer)

Zorg

Topicus neemt Steunwijzer over

IT-bedrijf Topicus is sinds begin deze maand eigenaar van SaaS-platform Steunwijzer. Steunwijzer helpt gemeenten en zorgregio’s bij overzicht krijgen op het zorgaanbod in hun regio. Topicus biedt ondersteuning bij het organiseren van regionale zorg....

Open stack

IT management

OpenStack community lanceert Caracal release

Nieuwe release levert substantiële nieuwe mogelijkheden door toenemende vraag aar OpenStack, gedreven door AI-workloads en gebruikers die VMware-alternatieven zoeken De OpenStack-gemeenschap heeft vandaag de release aangekondigd van Caracal. De 29e versie van ’s werelds...

internet sidn mobiel internet platformdiensten gigabitinternet

Internet

BREIN wil blokkering shadow libraries

De Rechtbank Rotterdam beval afgelopen week de twee grootste illegale downloadplatforms voor ebooks, shadow libraries, te blokkeren. Het oordeel kwam tot stand op advies van de Stichting BREIN. Google werkt eraan mee. Het gaat...

risicobeheer

Security

AFM: stel kader op voor ICT-risicobeheer

Stel een kader op voor ICT-risicobeheer. Dat is het advies van de Autoriteit Financiële Markten (AFM) in de zogeheten DORA-update. Get is de derde publicatie over de inhoudelijke aspecten van de Digital Operational Resilience...

Security

Cyberrisico’s en Amerikaanse presidentsverkiezingen

In de VS geeft ruim de helft van staats- en lokale overheidsverantwoordelijken aan slechts enigszins of zelfs helemaal niet voorbereid te zijn op detecteren en herstellen van cyberincidenten die de aankomende presidentsverkiezingen verstoren. Dit...

Atos

IT management

Atos diep in rode cijfers

De jaarcijfers van IT-bedrijf Atos schrijven diep rood. Dat bleek dinsdag bij de presentatie ervan. Het Franse IT-bedrijf moest vorig jaar vanwege tegenvallende resultaten miljarden afschrijven, terwijl de kosten van de schulden stegen met...